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片堿生產中加糖原理及反應機理
發(fā)布時間：2024-09-03 發(fā)布人：片堿
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在片堿生產中，高溫的濃堿對鎳設備有--定的腐蝕性。腐蝕的原因主要是堿液中所含氯酸鹽在250°C以上時會逐步分解，并放出新生態(tài)氧與鎳材發(fā)生反應，生成氧化鎳層。氧化鎳易溶于濃堿中而被堿液帶走。這樣的過程在濃堿蒸發(fā)中反復進行而導致鎳制設備的腐蝕損壞。離子膜堿雖然含氯酸鹽僅有20-30mg/L,但為了保持設備的長期壽命，仍需要處理除去氯酸鹽。常用的處理方法是在原料液中加入糖液。這種方法比其他方法如離子交換法、亞硫酸鈉法優(yōu)越的多，其主要原因是操作簡單、無須加許多設備，另外糖資源易得，而且價格低廉。
其反應機理為
C2H2201+8NaC103=8NaCl+12C02+11H20
生成的CO2即與Na0H反應
C02+2Na0H=Na2C03+H20
生產中實際加入糖量是理論量的2倍,也有的其至是建議值的6~8倍，這樣做會使反應進行的很完全。由于在反應過程中產生CO,，因此在堿產品中Na2C0.的含量會增加一些，當然同時也增加了產品中NaC1的含量。
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